CVD化学气相沉积多通道质量流量控制系统一款多路质量流量计控制系统，化学气相沉积设备质量流量计和不锈钢混气罐都安装在一个移动柜里，移动柜Z大可以承重1000Lb...

化学气相沉积设备描述：CVD化学气相沉积多通道质量流量控制系统一款多路质量流量计控制系统，其质量流量计和不锈钢混气罐都安装在一个移动柜里，移动柜Z大可以承重10...

PECVD化学气相沉积多通道质量流量控制系统一款多路质量流量计控制系统，其质量流量计和不锈钢混气罐都安装在一个移动柜里，移动柜Z大可以承重1000Lbs，所以在...

薄膜材料制备广泛用于:真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境。该设备技术成熟、质量可靠，温场均匀，结构合理，法兰以卡箍密封，安装拆卸简便快捷，是各...

化学气相沉积设备CVD1200C-II-SL200D50-5Z 双温区滑轨式CVD系统由双温区滑轨炉、质子流量控制系统、真空系统三部分组成。双温区滑轨炉可移动并...

设备描述：CVD化学气相沉积多通道质量流量控制系统一款多路质量流量计控制系统，其质量流量计和不锈钢混气罐都安装在一个移动柜里，移动柜Z大可以承重1000Lbs，...